发明名称 器件制造方法、电脑可读取媒体及微影装置
摘要 本发明揭示在一使用一微影装置之器件制造方法中,在场内及/或在场间应用对剂量之校正,以补偿归因于对该微影装置之投影系统之元件之预测加热的CD变化。
申请公布号 TWI383268 申请公布日期 2013.01.21
申请号 TW097106885 申请日期 2008.02.27
申请人 ASML荷兰公司 荷兰 发明人 马卡斯 安德纳斯 范 戴 克豪夫;穆罕莫得 艾卡西;曼摩那 艾尔 奥斯达德;阿西斯 乌西瑞
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 荷兰