利用电动源线圈组件以校准基线偏斜之方法

摘要

本发明大体上提供在感应耦合电浆腔室中调整电浆密度分布之设备及方法。本发明之一实施例提供一配置用于处理基板之设备。该设备包含：一腔室主体，其界定一配置以在其中处理基板之制程容积；以及一线圈组件，其在该制程容积外侧耦合至该腔室主体。其中该线圈组件包含：一线圈装配板；一第一线圈天线，其装配在该线圈装配板上；以及一线圈调整构件，其配置为调整该第一线圈天线相对于该制程容积之对准。