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发明名称
辐射系统及微影装置
摘要
本发明系关于一种用于产生电磁辐射之辐射系统。该辐射系统包括一对电极,其经建构及经配置以产生一第一物质之电浆及在该电浆中之一自束。该辐射系统亦包括一电浆重组表面,其邻近该自束而配置,且经组态以中和复数个电浆粒子。
申请公布号
TWI383710
申请公布日期
2013.01.21
申请号
TW096146370
申请日期
2007.12.05
申请人
ASML荷兰公司 荷兰
发明人
马登 马瑞司 琼恩 威贺默思 凡 赫本;维顶 维根维齐 班尼;法拉帝莫 维塔拉维屈 依法诺;康士坦汀 尼可拉威屈 卡士李;德克 珍 威弗瑞德 克朗德
分类号
H05G2/00;G03F7/20
主分类号
H05G2/00
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
荷兰
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