曝光设备和装置制造方法

摘要

一用于曝光基板上之拍摄区域的曝光设备包括一量测装置，其被组构成量测该基板上之拍摄区域的每一个中之对齐记号的位置；及一控制器，其被组构成由该基板上之拍摄区域产生样本拍摄组，以造成该量测装置在每一量测条件之下量测该等样本拍摄组的每一个中之对齐记号的位置、基于该等量测位置关于该等量测条件及该等样本拍摄组之组合的每一个计算一拍摄配置、关于该等量测条件之每一个计算关于该等样本拍摄组所计算之拍摄配置的变化、并显示关于该等量测条件的每一个所计算之变化。