用于基材制程处理腔室之环组件

摘要

本发明提供一种用于基材处理室中使用的基材支撑件的环组件，该基材支撑件包含一环形壁架和一内周界侧壁。在一态样中，环组件包含(i)一L形绝缘环，其包括设置在支撑件之环形壁架上的一水平臂和邻接支撑件之内周界侧壁的一垂直臂，以及(ii)一沉积环，其包含一环形带，该环形带具有与沉积环之水平臂交叠的一重叠壁架。在另一态样中，沉积环包含一介电环形带和一托架及紧固件，该介电环形带围绕支撑件的环形壁架并与支撑件的环形壁架交叠(overlap)。