光阻材料及图型之形成方法

摘要

本发明系一种正型光阻材料，其特征系含有：藉由酸之作用提高对硷显像液之溶解性的树脂成分(A)及感应活性光线或辐射线产生酸的化合物(B)，再含有一种以上之分子量150以上之酸性有机化合物(C)。;本发明之光阻材料系在微细加工技术，特别是ArF微影技术中，不仅高解像性，且可达成降低缺陷，非常适合精密之微细加工。