发明名称 具有光束均光器之投射系统
摘要 本发明揭示一种聚光器与投射透镜之间具有一指定关系的投射系统,其中一与一投射物平面通常一致之成像器闸位于一聚光器背焦平面与一聚光器像平面之间且与该聚光器背焦平面及该聚光器像平面隔开。该聚光器将一扩展源成像于该聚光器像平面上,其较佳具有充分像场弯曲以产生该源之一弯曲影像。一界定一图形影像之像素化面板或薄膜位于该成像器闸处。该聚光器之放大率经选择使得该源之该影像与该像素化面板尺寸基本相同。定位该成像器闸远离该聚光器像平面将在该源之区域上提供任何亮度非均匀性之模糊,从而提供一其外形与该成像器闸之形状匹配之相对均匀照明图案。
申请公布号 TW200732699 申请公布日期 2007.09.01
申请号 TW095149676 申请日期 2006.12.29
申请人 3M新设资产公司 发明人 派崔克 瑞恩 迪斯坦
分类号 G02B27/18(2006.01) 主分类号 G02B27/18(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文;简秀如
主权项
地址 美国