压力控制的抛光压板

摘要

本发明描述一种用于在抛光工艺中控制施加于基板的压力和力的方法和设备。在一个实施方式中，描述一种拋光系统。系统包括可旋转地布置在基座上的压板和垫压力施加器，所述压板具有侧壁和布置在所述压板上的抛光垫以形成内部体积，所述垫压力施加器布置在压板的内部体积中邻近所述抛光垫的下侧。

主权项

一种拋光系统，包含：可旋转地布置在基座上的压板，所述压板具有侧壁和在所述压板周边固定至所述压板的抛光垫以形成内部体积；和垫压力施加器，所述垫压力施加器布置在所述压板的所述内部体积中邻近所述抛光垫的下侧。