发明名称 | 流体处理结构、光刻设备和器件制造方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种用于光刻设备的流体处理结构、一种光刻设备和一种器件制造方法。所述流体处理结构在配置用于将浸没流体限制在流体处理结构之外的区域的空间的边界处具有:弯液面钉扎特征,用以抵抗浸没流体沿径向向外方向离开所述空间;线性阵列形式的多个气体供给开口,其至少部分地围绕弯液面钉扎特征并且在弯液面钉扎特征的径向向外位置处;和气体回收开口,其在线性阵列形式的所述多个气体供给开口的径向向外位置处。 | ||
申请公布号 | CN102880007A | 申请公布日期 | 2013.01.16 |
申请号 | CN201210238864.8 | 申请日期 | 2012.07.10 |
申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | R·H·M·考蒂;M·瑞鹏;C·M·诺普斯 |
分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 吴敬莲 |
主权项 | 一种用于光刻设备的流体处理结构,所述流体处理结构在配置用于将浸没流体限制在流体处理结构之外的区域的空间的边界处具有:弯液面钉扎特征,用以抵抗浸没流体沿径向向外的方向离开所述空间;线性阵列形式的多个气体供给开口,其至少部分地围绕弯液面钉扎特征并且在弯液面钉扎特征的径向向外位置处;和至少一个气体回收开口,其在线性阵列形式的所述多个气体供给开口的径向向外位置处。 | ||
地址 | 荷兰维德霍温 |