发明名称 | 显像剂层限制部件和显像装置 | ||
摘要 | 本发明的典型构成包括显像剂层限制部件(41),其用于限制可旋转的显像套筒(4c)上保持的显像剂量,该可旋转的显像套筒(4c)负载显像剂并且将该显像剂搬运到与光电导体鼓(1)相对的显像区域,该显像剂通过将非磁性调色剂和磁性载体混合而制成。本发明包括由树脂制成的基材树脂板和设置在该显像剂层限制部件(41)的表面上的树脂硬涂层(41b),该树脂硬涂层通过用比该基材树脂板的树脂硬的树脂涂布该基材树脂板而制成。 | ||
申请公布号 | CN102880029A | 申请公布日期 | 2013.01.16 |
申请号 | CN201210241946.8 | 申请日期 | 2012.07.06 |
申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 吉川忠伸 |
分类号 | G03G15/08(2006.01)I | 主分类号 | G03G15/08(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 李帆 |
主权项 | 显像剂层限制部件,其用于限制可旋转的显像剂载体上保持的显像剂量,该可旋转的显像剂载体负载显像剂并且将该显像剂搬运到与像负载部件相对的显像区域,该显像剂通过将非磁性调色剂和磁性载体混合而制成,该显像剂层限制部件包括:由树脂制成的基材树脂板;和设置在该显像剂层限制部件的表面上的树脂硬涂层,该树脂硬涂层通过用比该基材树脂板的树脂硬的树脂涂布该基材树脂板而制成。 | ||
地址 | 日本东京 |