一种大口径光学元件激光预处理的方法及装置

摘要

本发明公开了一种大口径光学元件激光预处理的方法及装置，首先将激光光束照射到被处理样品表面上的处理点1进行辐照预处理，由处理点1反射出来的激光光束经激光能量回收反射镜后再次照射到被处理样品表面上的处理点2；如此类推，激光光束经激光能量回收反射镜后多次与被处理样品表面相互作用，在被处理样品表面上的处理点1到处理点N均进行辐照预处理。本发明利用光能量回收反射镜对激光能量进行回收重复利用，实现样品表面多点并行处理，从而大幅度提高大口径光学元件激光预处理速度。该方法和装置可以用于光学薄膜缺陷修复、激光反射元件表面清洁、光学高反射率薄膜激光预处理等多个领域，特别适用于对大口径光学元件的快速预处理以提高其抗激光破坏能力。

主权项

一种大口径光学元件激光预处理的方法，其特征在于：包括以下步骤：首先将预处理激光光束入射到被处理样品‑大口径光学元件的表面，并对被处理样品表面上的处理点1进行辐照预处理，然后由被处理样品表面上的处理点1反射回来的激光光束经激光能量回收反射镜反射后再次照射到被处理样品表面上的处理点2进行辐照预处理；如此类推，激光经激光能量回收反射镜后多次与被处理样品表面相互作用，在被处理样品表面上的处理点1到处理点N均进行辐照预处理。