喷嘴设备和化学气相沉积反应器

摘要

本实用新型描述了一种在化学气相沉积反应器中使用的喷嘴设备。该喷嘴设备具有喷嘴本体和至少一个控制单元，喷嘴本体具有入口、出口和位于它们之间的流动空间，控制单元包含控制部分和设定部分，其中，控制部分以可运动的方式布置在流动空间内，在流动空间内限定了流动横截面，流动横截面足够小以在气体流经喷嘴体时于控制部分产生压力损失，该压力损失在流动空间内朝向出口偏置控制部分。设定部分随控制部分一起运动且包含至少一个如下部分：它随设定部分的运动而改变出口的流动横截面。此外，提供至少一个偏置元件，它在流动空间内向远离出口的方向偏置控制部分。此外，描述了一种化学气相沉积反应器，它具有限定了工艺空间的工艺室。工艺室包含在其底壁上的至少一个通孔，而上述类型的喷嘴设备至少部分地被接纳在通孔内。

主权项

在化学气相沉积反应器内使用的喷嘴设备，包括：喷嘴本体，该喷嘴本体具有入口、出口和位于入口和出口之间的流动空间；其特征在于，还包括：至少一个控制单元，该至少一个控制单元具有控制部分和设定部分，其中，控制部分以可运动的方式配置在流动空间内，且控制部分限定了流动空间内的流动横截面，流动横截面足够小，以在气体流经喷嘴体时于控制部分处产生压力损失，该压力损失在流动空间内朝向出口偏置控制部分，其中，设定部分可与控制部分一起运动且包含这样一个部分：它随设定部分的运动而改变出口的流动横截面；以及至少一个偏置元件，该偏置元件在流动空间内向远离出口的方向偏置控制部分。