| 发明名称 |
GAS DISTRIBUTION UNIT AND APPARTUS OF PLASMA PROCESSING FOR SUBSTRATE HAVING THE GAS DISTRIBUTION UNIT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20090046553(A) |
申请公布日期 |
2009.05.11 |
| 申请号 |
KR20070112769 |
申请日期 |
2007.11.06 |
| 申请人 |
K.C.TECH CO., LTD. |
发明人 |
JUN, YOUNG SU;KIM, KYUNG JOON |
| 分类号 |
H01L21/02;H01L21/00;H01L21/205;H01L21/3065 |
主分类号 |
H01L21/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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