发明名称 |
发光元件及其制作方法 |
摘要 |
本发明提供一种发光元件及其制作方法,发光元件包括基板、发光结构区域、静电放电保护结构区域、沟槽、导电层、第一电极及第二电极。发光结构区域与静电放电保护结构区域形成在基板上。发光结构区域包括第一半导体层、发光层、第二半导体层。静电放电保护结构区域包括第三半导体层、主动层及第四半导体层。沟槽形成在发光结构区域与静电放电保护区域之间。导电层配置在沟槽上。第一电极形成在静电放电保护结构区域上,并覆盖至少部分静电放电保护结构区域。第二电极形成在发光结构区域上,且不延伸至静电放电保护结构区域上。 |
申请公布号 |
CN102881706A |
申请公布日期 |
2013.01.16 |
申请号 |
CN201210141483.8 |
申请日期 |
2012.05.09 |
申请人 |
广镓光电股份有限公司 |
发明人 |
程志青 |
分类号 |
H01L27/15(2006.01)I;H01L27/02(2006.01)I;H01L33/38(2010.01)I |
主分类号 |
H01L27/15(2006.01)I |
代理机构 |
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 |
代理人 |
臧建明 |
主权项 |
一种发光元件,其特征在于,包括:基板;发光结构区域,形成在该基板上,且包含第一半导体层、发光层及第二半导体层;静电放电保护结构区域,形成在该基板上,且包含第三半导体层、主动层及第四半导体层;沟槽,其中该沟槽形成在该发光结构区域与该静电放电保护结构区域之间;导电层,其中该导电层配置在该沟槽上,且连接该发光结构区域与该静电放电保护结构区域;第一电极,其中该第一电极形成在该静电放电保护结构区域上,并覆盖至少部分该静电放电保护结构区域;以及第二电极,其中该第二电极形成在该发光结构区域上,且该第二电极不延伸至该静电放电保护结构区域上。 |
地址 |
中国台湾台中市大雅区中部科学工业园区科雅路22号 |