| 摘要 |
曝光装置，具有将原版（1）之图案投影于基板（11）之投影光学系PO。投影光学系PO，于原版1与基板（11）之间之光径中具备由原版1之侧起依序被配置之第1凹面镜（6）、凸面镜（7）、第2凹面镜（8）、支撑第1凹面镜（6）与第2凹面镜（8）之支撑机构。第一凹面镜（6）的反射面与凸面镜（7）的反射面之距离，与第2凹面镜（6）的反射面与凸面镜（7）的反射面之距离，与第2凹面镜（6）的反射面与凸面镜（7）的反射面之距离不同。前述支撑机构，包含上部构件（105）、中段构件（107）、下部构件（108），以及包含连接这些的端部的侧部构件之棚形状的框体。第1凹面镜（6），藉由上部构件（105）及中段构件（107）支撑，第2凹面镜（8），藉由下部构件（108）支撑。 |
