| 发明名称 | 清洁化妆料 | ||
| 摘要 | 一种清洁化妆料，其含有：(A)含量为30质量％以上、I/O值在0.05～0.25范围内的第一油性成分；(B)含量超过10质量％、具有脂肪族烃链且不具有不饱和脂肪族烃链的液状乳化剂；以及(C)类胡萝卜素。 | ||
| 申请公布号 | CN102883707A | 申请公布日期 | 2013.01.16 |
| 申请号 | CN201180022450.5 | 申请日期 | 2011.04.25 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 田代朋子;小杉拓治 |
| 分类号 | A61K8/67(2006.01)I;A61K8/37(2006.01)I;A61Q1/14(2006.01)I | 主分类号 | A61K8/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 蒋亭 |
| 主权项 | 一种清洁化妆料，其含有：(A)含量为30质量％以上、I/O值在0.05～0.25范围内的第一油性成分；(B)含量超过10质量％、具有脂肪族烃链且不具有不饱和脂肪族烃链的液状乳化剂；以及(C)类胡萝卜素。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||