| 发明名称 | 催化剂表面体去除装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种高效地从催化剂去除从催化剂表面渗出和／或附着于催化剂表面的物体（催化剂表面体）的装置。该装置具有主体，通过使气流与收容在上述主体内的催化剂相接触，将存在于催化剂表面上的催化剂表面体从催化剂去除，其中，上述气流的流动方向上的气流长度是55mm以上，并且在换算为摄氏15℃、1标准大气压下的线速度的情况下，上述气流的平均流速是80m／s～500m／s。 | ||
| 申请公布号 | CN102883810A | 申请公布日期 | 2013.01.16 |
| 申请号 | CN201180021918.9 | 申请日期 | 2011.04.26 |
| 申请人 | 旭化成化学株式会社 | 发明人 | 石井悠辅;古谷泰章;福薗敏彦 |
| 分类号 | B01J23/90(2006.01)I;B01J23/28(2006.01)I;B01J38/04(2006.01)I;C07C253/24(2006.01)I;C07C255/08(2006.01)I;C07B61/00(2006.01)I | 主分类号 | B01J23/90(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;张会华 |
| 主权项 | 一种催化剂表面体去除装置，其具有主体，通过使气流与收容在上述主体内的催化剂相接触，将存在于催化剂表面的催化剂表面体从催化剂去除，其中，上述气流的流动方向上的气流长度是55mm以上，并且在换算为摄氏15℃、1标准大气压下的线速度的情况下，上述气流的平均流速是80m／s～500m／s。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||