发明名称 |
一种新型多量子阱发光二极管 |
摘要 |
本实用新型涉及了一种新型多量子阱发光二极管。所述的新型多量子阱发光二极管,其外延结构由下而上依次为衬底1、缓冲层2、未掺杂GaN层3、掺杂的GaN 层4、多量子阱InyGa1-yN/InxGa1-xN有源层5、电子阻挡层6、p型空穴层及接触层 7。多量子阱InyGa1-yN/InxGa1-xN有源层5包括InyGa1-yN垒层51和InxGa1-xN阱层52,InxGa1-xN阱层52包括三层,分别为:x逐渐增加的521层,x 定的522层,x逐渐减少的523层。其中0≤y<1,y>x,0<x<1。InyGa1-yN垒层51和InxGa1-xN阱层52周期数在5至15个周期之间。本使用新型结构会减少阱和垒之间的应力,极化作用减弱,获得了比较好的晶体质量;同时增加了电子和空穴注入量子阱中的效率,从而提高了光输出功率。 |
申请公布号 |
CN202678396U |
申请公布日期 |
2013.01.16 |
申请号 |
CN201220295933.4 |
申请日期 |
2012.06.21 |
申请人 |
江门市奥伦德光电有限公司 |
发明人 |
戚雪林;郝锐;吴质朴;马学进 |
分类号 |
H01L33/06(2010.01)I;H01L33/32(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/06(2010.01)I |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
一种新型多量子阱发光二极管,其特征在于:所述的发光二极管其外延结构由下而上依次为衬底、缓冲层、未掺杂GaN层、掺杂的GaN层、多量子阱lnyGa1‑yN/InxGa1‑xN有源层、电子阻挡层、p型空穴层及接触层。 |
地址 |
529200 广东省江门市高新区龙溪路34号 |