/ Apparatus for filtration and gas/vapor mixing in thin film deposition

摘要

본 발명은 가스/증기 혼합물로부터 입자를 제거하고, 동시에 가스/증기 혼합물의 균일성을 향상시켜 박막 증착 및 반도체 소자 제조를 위해 보다 균일하게 혼합된 혼합물 스트림을 생성하기 위한 장치에 관한 것이다.