| 发明名称 | 基板表层线路图形制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种基板表层线路图形制作方法，包括：第一步骤，用于对包含金属化通孔的基板进行第一次贴膜，从而在包含金属化通孔的基板的表面贴第一干膜和保护膜，并且对包含线路和封孔部分的整个图形部分进行曝光，曝光后撕去第一干膜表层的保护膜；第二步骤，用于进行第二次贴膜，从而在第一干膜的表面贴第二干膜和保护膜，并且进行第二次曝光，只曝含金属化通孔封孔部分；第三步骤，用于撕去表层的第二干膜的保护膜，然后对第一干膜和第二干膜同时显影；第四步骤，用于进行蚀刻并去除第一干膜和第二干膜。第一干膜的厚度为0.7-1.2mil，第二干膜的厚度为1.5-2mil。 | ||
| 申请公布号 | CN102883542A | 申请公布日期 | 2013.01.16 |
| 申请号 | CN201210396390.X | 申请日期 | 2012.10.17 |
| 申请人 | 无锡江南计算技术研究所 | 发明人 | 梁少文;吴小龙;吴梅珠;徐杰栋;刘秋华;胡广群;周文木;陈文录 |
| 分类号 | H05K3/06(2006.01)I | 主分类号 | H05K3/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人 | 龚燮英 |
| 主权项 | 一种基板表层线路图形制作方法，其特征在于包括：第一步骤，用于对包含金属化通孔的基板进行第一次贴膜，从而在包含金属化通孔的基板的表面贴第一干膜和保护膜，并且对包含线路和封孔部分的整个图形部分进行曝光，曝光后撕去第一干膜表层的保护膜；第二步骤，用于进行第二次贴膜，从而在第一干膜的表面贴第二干膜和保护膜，并且进行第二次曝光，只曝含金属化通孔封孔部分；第三步骤，用于撕去表层的第二干膜的保护膜，然后对第一干膜和第二干膜同时显影；第四步骤，用于进行蚀刻并去除第一干膜和第二干膜。 | ||
| 地址 | 214083 江苏省无锡市滨湖区军东新村030号 | ||