微光刻投射曝光装置的照明系统

摘要

一种微光刻投射曝光装置的照明系统包含空间光调制器(58)，其改变瞳面(38)中的强度分布。调制器(58)包含反射镜(64)的阵列(62)，反射镜(64)将照到的投射光(34)反射到取决于施加到反射镜的控制信号的方向。棱镜(60)朝向空间光调制器(58)导引投射光(34)，并具有投射光(34)照射两次的双通表面(76)，即，第一次为离开棱镜(60)时且在被反射镜(64)反射之前，第二次为进入棱镜(60)时且在被反射镜(64)反射之后。提供瞳干扰抑制装置，当投射光(34)第一次照到双通表面(76)时，降低投射光(34)的反射，和/或避免反射造成的光部分(78)贡献于瞳面(38)中的强度分布。

主权项

一种微光刻投射曝光装置的照明系统，包含：a)光源（30），被配置为产生投射光（34）；b)瞳面（28）；c)空间光调制器（58），被配置为改变所述瞳面（38）中的强度分布，所述空间光调制器（58）包含反射元件（64）的阵列（62），所述反射元件被配置为将照射的投射光（34）反射到取决于施加到所述反射元件的控制信号的方向；d)光束折迭单元，包含至少一个棱镜（60），其中所述光束折迭单元朝向所述空间光调制器（58）引导所述光源（30）产生的所述投射光（34）；其中所述至少一个棱镜（60）具有所述投射光（34）照射两次的双通表面（76），第一次为离开所述至少一个棱镜（60）时且在所述投射光（34）被所述反射元件反射之前，第二次为进入所述至少一个棱镜（60）时且在所述投射光（34）被所述反射元件反射之后，其特征在于：瞳干扰抑制装置，其被配置为：‑当所述投射光第一次照到所述双通表面（76）时，降低所述投射光的反射；和/或‑避免这样的反射造成的光部分（78）贡献于所述瞳面（38）中的强度分布。