发明名称 基板搬送装置、基板处理系统和基板搬送方法
摘要 本发明提供一种在真空中进行伴随热的处理的基板处理装置,基板处理系统和基板搬送方法,即使以高速搬送基板也能够提高基板的位置精度。对进行伴随热的真空处理的真空处理单元搬入和搬出基板的基板搬送装置,包括:具有决定基板位置的定位销,在对基板定位的状态下保持基板的拾取器;以通过拾取器对真空处理单元进行基板的搬入和搬出的方式驱动拾取器的驱动部;和控制拾取器的基板搬送动作的搬送控制部,搬送控制部,预先掌握在将基板搬入真空处理单元时的常温中基板的基准位置信息,在实际处理中,将基板搬入真空处理单元时,计算从该基板的基准位置的位置偏移,控制驱动部来修正位置偏移,将基板搬入真空处理单元。
申请公布号 CN102881618A 申请公布日期 2013.01.16
申请号 CN201210245908.X 申请日期 2012.07.16
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 阪上博充;小泽雅仁;古屋雄一;信田菜奈子;广瀬胜人;稻垣守人
分类号 H01L21/67(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I 主分类号 H01L21/67(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人 龙淳
主权项 一种基板搬送装置,其在具有进行伴随热的真空处理的真空处理单元和与所述真空处理单元连接且内部保持真空的搬送室的基板处理系统中,设置于所述搬送室内,对所述真空处理单元进行基板的搬入和搬出,该基板搬送装置的特征在于,包括:拾取器,其具有决定基板的位置的定位销,在将基板定位的状态下保持基板;驱动部,其驱动所述拾取器,使得通过所述拾取器将基板搬入和搬出所述真空处理单元;和搬送控制部,其控制通过所述拾取器进行的基板搬送动作,所述搬送控制部,预先掌握在将基板搬入所述真空处理单元时的常温中的基板的基准位置信息,在实际处理中,将基板搬入所述真空处理单元时,计算该基板从所述基准位置的位置偏移,控制所述驱动部来修正所述位置偏移,将所述基板搬入所述真空处理单元。
地址 日本东京都