具有使用经调变的扰动波而制造之微滴流的雷射生成式电浆超紫外线（ＥＵＶ）光源

摘要

本发明揭露一电浆产生系统，其具有一譬如锡微滴等标靶材料微滴源、及一譬如一脉冲式CO2雷射等雷射，而生成一用于在一辐照区处辐照微滴之束，该电浆生成超紫外线(EUV)辐射。对于该装置，微滴源可包含一离开一孔口之流体及一用于在流体中生成一扰动之次系统，藉以产生具有不同初始速度的微滴而造成至少部分相邻微滴对在抵达辐照区之前接合在一起。一实行方式中，扰动可包含一经频率调变的扰动波形，且另一实行方式中，扰动可包含一经振幅调变的扰动波形。