发明名称 二氧化矽去除装置与二氧化矽去除方法
摘要 提供一种二氧化矽去除装置以及二氧化矽去除方法,使用简单的装置,从逆渗透膜浓缩水将二氧化矽去除至饱和浓度以下,在有效的防止逆渗透膜浓缩水循环之二氧化矽剥落发生的同时,原水的全量能够作为逆渗透膜透过水回收。一种二氧化矽去除装置,在藉由逆渗透膜去除水中的二氧化矽的装置中,包括:(A)原水槽;(B)原水的pH调整单元;(C)逆渗透膜装置;(D)逆渗透膜浓缩水的pH调整单元;(E)填充有含多孔质二氧化矽去除剂的二氧化矽去除单元;以及(F)使二氧化矽去除装置的流出水返回前述原水槽的回流单元。以及一种二氧化矽去除方法,包括下列步骤:将原水的pH调整为7并供给至逆渗透膜装置而分离为逆渗透膜透过水与逆渗透膜浓缩水;将前述逆渗透膜浓缩水的pH调整至6.5~9之后,使其流过填充有含多孔质二氧化矽去除剂的二氧化矽去除单元;以及将二氧化矽去;除单元的流出水送返回原水槽。
申请公布号 TWI381999 申请公布日期 2013.01.11
申请号 TW094110195 申请日期 2005.03.31
申请人 栗田工业股份有限公司 日本 发明人 加藤知夫
分类号 C02F1/60;C02F1/44 主分类号 C02F1/60
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项
地址 日本
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