一种光刻机设备系统及其测量方法

摘要

本发明提供了一种光刻机设备系统，包括：主基板、投影物镜、上顶板以及承版台，所述投影物镜嵌入所述主基板，所述上顶板设置在所述投影物镜上，所述上顶板设置有通光孔，所述承版台设置在所述上顶板的上方，所述光刻机设备系统中还包括激光干涉仪单元、导光单元以及反射单元，所述激光干涉仪单元设置在所述主基板上，所述激光干涉仪单元发出光束穿过所述通光孔经过所述导光单元到达所述反射单元。本发明还提供了一种光刻机设备系统的测量方法。本发明所提供的光刻机设备系统在结构上省略了支架，通过虚拟的光束行程代替支架的物理高度，实现光束从主基板上表面到达承版台，降低了结构复杂度，改善了现有的内部世界结构。

主权项

一种光刻机设备系统，包括：主基板、投影物镜、上顶板以及承版台，所述投影物镜嵌入所述主基板，所述上顶板设置在所述投影物镜上，所述上顶板设置有通光孔，所述承版台设置在所述上顶板的上方，其特征在于，所述光刻机设备系统中还包括激光干涉仪单元、导光单元以及反射单元，所述激光干涉仪单元设置在所述主基板上，所述激光干涉仪单元发出光束穿过所述通光孔经过所述导光单元到达所述反射单元。