确定方法和信息处理装置

摘要

本发明涉及一种确定方法和信息处理装置。本发明提供一种确定曝光装置的曝光条件的确定方法，该曝光装置包括照射掩模的照射光学系统和将掩模的图案投影到基板上的投影光学系统，该方法包括：设定用于在照射光学系统的瞳面上形成的光强度分布的照射参数和用于投影光学系统的像差的像差参数的步骤；以及确定照射参数的值和像差参数的值以使得掩模的图案的光学图像的图像性能满足对于要在投影光学系统的像面上形成的目标图案设定的评价准则的步骤。

主权项

一种确定曝光装置的曝光条件的确定方法，该曝光装置包括照射掩模的照射光学系统和将掩模的图案投影到基板上的投影光学系统，该方法包括：第一步骤，设定用于在照射光学系统的瞳面上形成的光强度分布的照射参数和用于投影光学系统的像差的像差参数；和第二步骤，确定照射参数的值和像差参数的值以使得与要被放置在投影光学系统的物面上的掩模的图案对应地在投影光学系统的像面中形成的掩模的图案的光学图像的图像性能满足对于要在投影光学系统的像面上形成的目标图案设定的评价准则，由此确定分别由所确定的照射参数的值和所确定的像差参数的值定义的在照射光学系统的瞳面上形成的光强度分布和投影光学系统的像差作为曝光条件。