| 发明名称 | 用于场致发光装置的反射阳极结构 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种场致发光装置(100)，包括：第一场致发射阴极(106)；包括荧光层(108)的阳极结构(102)；以及真空外罩，所述阳极结构(102)和所述第一场致发射阴极均设置在该真空外罩内；其中，所述阳极结构(102)被设置为当在所述阳极结构和所述第一场致发射阴极之间施加电压时接收由所述第一场致发射阴极(106)发射的电子，并且被设置为将由所述荧光层(108)产生的光从所述真空腔反射出去。本发明的优点包括功率损耗降低和以及所述场致发光装置的光输出增大。 | ||
| 申请公布号 | CN102870190A | 申请公布日期 | 2013.01.09 |
| 申请号 | CN201080058761.2 | 申请日期 | 2010.11.29 |
| 申请人 | 光实验室瑞典股份公司 | 发明人 | Q·胡 |
| 分类号 | H01J63/02(2006.01)I | 主分类号 | H01J63/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人 | 武晨燕;张颖玲 |
| 主权项 | 一种场致发光装置，包括：第一场致发射阴极；包括荧光层的阳极结构；以及真空外罩，所述阳极结构和所述第一场致发射阴极均设置在该真空外罩内；其中，所述阳极结构被设置为当在所述阳极结构和所述第一场致发射阴极之间施加电压时接收由所述第一场致发射阴极发射的电子，并且被设置为将由所述荧光层产生的光从所述真空外罩反射出去。 | ||
| 地址 | 瑞典斯德哥尔摩 | ||