曝光装置

摘要

本发明提供一种曝光装置，其能够防止或降低掩模与基板之间产生的按压力，从而防止或抑制基板的破裂。该曝光装置（100）在掩模保持架（11）或基板载置台（12）其中一方上设有多个配置在掩模（M）或基板（W）的周围，能够调节自身长度的间隙限制机构，当掩模与基板之间的间隙变成预期的间隙时，该间隙限制机构与掩模保持架（11）和基板载置台（12）中的另一方抵接。

主权项

一种曝光装置，包括：用于保持形成有图案的掩模的掩模保持架；固定所述掩模保持架的掩模载置台；沿上下方向驱动所述掩模载置台的掩模上下驱动机构；用于保持基板的基板载置台；沿上下方向驱动所述基板载置台的基板上下驱动机构；和借助所述掩模向所述基板照射曝光用光的照明光学系统，所述曝光装置使所述掩模与所述基板的主表面相对接近，能够以用于将所述图案转印到所述基板的主表面而使用的接近方式和接触方式这两种方式进行曝光，其特征在于，在所述掩模保持架和所述基板载置台中的其中一方上，设有多个配置在所述掩模或所述基板的周围，并能够调节自身的长度的间隙限制机构，当所述掩模与所述基板之间的间隙变成预期的间隙时，所述间隙限制机构与所述掩模保持架和所述基板载置台中的另一方抵接。