| 发明名称 | 一种旋转可调α源照射装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种旋转可调α源照射装置，其特征在于：包括有支架，所述支架上架设有回转平台，所述回转平台上设有多个样品培养皿，所述回转平台下方的支架上架设有可升降的α源照射机构，所述回转平台由电机驱动。本实用新型设计合理，通过调节放射源高度，样品台转速，粒子出口角度等方式对细胞所受辐射的剂量进行调节，具有造价便宜，可进行不同剂量，剂量率和LET照射，照射剂量准确，可控性好等性能。 | ||
| 申请公布号 | CN202658160U | 申请公布日期 | 2013.01.09 |
| 申请号 | CN201220092189.8 | 申请日期 | 2012.03.13 |
| 申请人 | 合肥聚能电物理高技术开发有限公司 | 发明人 | 吴杰锋;刘志宏;薛延河;陈建林;张怀斌;商明明 |
| 分类号 | C12M1/42(2006.01)I | 主分类号 | C12M1/42(2006.01)I |
| 代理机构 | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人 | 余成俊 |
| 主权项 | 一种旋转可调α源照射装置，其特征在于：包括有支架，所述支架上架设有回转平台，所述回转平台上设有多个样品培养皿，所述回转平台下方的支架上架设有可升降的α源照射机构，所述回转平台由电机驱动。 | ||
| 地址 | 230031 安徽省合肥市蜀山区董铺岛 | ||