一种细晶高纯镍靶材制造方法

摘要

本发明涉及一种制备细小晶粒高纯镍溅射靶材的制造方法，本发明采用电子轰击炉熔炼，随后在合适工艺条件下进行热机械变形和冷塑性变形处理，再进行热处理，最后进行机加工，得到高性能的细晶高纯镍靶材，其纯度≥99.995%，平均晶粒度≤30um，晶粒大小均匀。

主权项

一种细晶高纯镍靶材的制备方法，包括以下步骤：（1）将纯度为99.99%的电解镍板酸洗后进行电子轰击炉熔炼，得到高纯镍铸锭；（2）将高纯镍铸锭在750℃~850℃进行热机械变形处理，采用的热机械变形方式为热轧或锻造，热轧变形量不低于80%，锻造墩拔次数不低于3次，镦粗拔长率不低于50%，空冷；（3）将热机械变形处理之后的高纯镍进行退火，退火温度450℃~550℃，退火时间1~3小时，空冷；（4）将（3）处理后的高纯镍进行冷轧，轧制道次变形率控制在10%~15%之间，总变形率不低于80%；（5）将冷轧之后的高纯镍在450℃~550℃退火1~3小时，空冷，趁热压平；（6）将（5）处理后的高纯镍坯料进行各种机械加工，得到细晶高纯镍靶材。