| 发明名称 | 连续加压装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种连续加压装置。该连续加压装置包括：圆筒(6)；压电陶瓷(4)，设置于圆筒(6)内；滑块(3)，设置于圆筒(6)内，压设于压电陶瓷(4)的上表面，其外侧壁可沿圆筒(6)的内侧壁上下滑动；对顶砧(1)，其部分的设置于圆筒(6)内，压设于滑块(3)的上表面。本发明可以对测试样品连续、精确地加压。 | ||
| 申请公布号 | CN102866065A | 申请公布日期 | 2013.01.09 |
| 申请号 | CN201210332942.0 | 申请日期 | 2012.09.10 |
| 申请人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明人 | 武雪飞;丁琨;窦秀明;孙宝权 |
| 分类号 | G01N3/18(2006.01)I;G01N3/02(2006.01)I | 主分类号 | G01N3/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 宋焰琴 |
| 主权项 | 一种连续加压装置，其特征在于，包括：圆筒(6)；压电陶瓷(4)，设置于所述圆筒(6)内；滑块(3)，设置于所述圆筒(6)内，压设于所述压电陶瓷(4)的上表面，其外侧壁可沿所述圆筒(6)的内侧壁上下滑动；对顶砧(1)，其部分的设置于所述圆筒(6)内，压设于所述滑块(3)的上表面。 | ||
| 地址 | 100083 北京市海淀区清华东路甲35号 | ||