发明名称 |
设置有槽盖开闭侦测装置的湿法处理槽 |
摘要 |
本实用新型公开了一种设置有槽盖开闭侦测装置的湿法处理槽,包括处理槽外槽、处理槽内槽,处理槽内槽设置于处理槽外槽的内部;处理槽内槽的顶部设置有两个对开的槽盖;槽盖的开关通过槽盖驱动气缸进行控制;槽盖与处理槽内槽之间通过传动轴实现活动连接;所述传动轴上设置有传感器。所述传感器为磁石接近传感器,包括磁石部分、感应开关部分,磁石部分和感应开关部分分别设置于传动轴和处理槽外槽的对应位置。本实用新型能够侦测湿法处理槽槽盖的开闭状况,并且产生相应的报警信号,从而防止由于槽盖打开异常所导致的硅片搬送过程中与槽盖相撞和碰擦的情况发生。 |
申请公布号 |
CN202662569U |
申请公布日期 |
2013.01.09 |
申请号 |
CN201220200375.9 |
申请日期 |
2012.05.07 |
申请人 |
上海华虹NEC电子有限公司 |
发明人 |
岳丰;陈威 |
分类号 |
H01L21/306(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/306(2006.01)I |
代理机构 |
上海浦一知识产权代理有限公司 31211 |
代理人 |
张骥 |
主权项 |
一种设置有槽盖开闭侦测装置的湿法处理槽,其特征在于:包括处理槽外槽、处理槽内槽,处理槽内槽设置于处理槽外槽的内部;处理槽内槽的顶部设置有两个对开的槽盖;槽盖的开关通过槽盖驱动气缸进行控制;槽盖与处理槽内槽之间通过传动轴实现活动连接;所述传动轴上设置有传感器。 |
地址 |
201206 上海市浦东新区川桥路1188号 |