发明名称 JFET及使用该JFET的微型逆变器
摘要 本实用新型公开了一种JFET及使用该JFET的微型逆变器,其JFET包括衬底和设在衬底上的SiC外延层,SiC外延层的上半部分为台阶状且为JFET的N型SiC沟道层,SiC外延层的下半部分为JFET的SiC漂移层,N型SiC沟道层的上部设有N型SiC欧姆接触层,衬底的下部设有漏极欧姆接触电极,N型SiC沟道层的上部设有源极欧姆接触电极,SiC漂移层的上部和N型SiC沟道层的侧壁上设有两个栅极肖特基接触电极;其微型逆变器包括电容C1、C2和C3,电感L1,JFET1、JFET2和JFET3,以及碳化硅肖特基二极管D1、D2、D3和D4。本实用新型设计新颖合理,实现方便,提高了微型逆变器的工作频率和工作可靠性,降低了电能损耗和电价。
申请公布号 CN202662614U 申请公布日期 2013.01.09
申请号 CN201220260708.7 申请日期 2012.06.05
申请人 长安大学 发明人 张林;李演明;邱彦章
分类号 H01L29/812(2006.01)I;H02M7/537(2006.01)I;H02M3/155(2006.01)I 主分类号 H01L29/812(2006.01)I
代理机构 西安创知专利事务所 61213 代理人 谭文琰
主权项 一种JFET,其特征在于:包括由N型SiC基片构成的衬底(2)和设置在所述衬底(2)上表面上的SiC外延层,所述SiC外延层的上半部分为台阶状且为所述JFET的N型SiC沟道层(3‑1),所述SiC外延层的下半部分为所述JFET的SiC漂移层(3‑2),所述N型SiC沟道层(3‑1)的上部设置有N型SiC欧姆接触层(4),所述衬底(2)的下部设置有漏极欧姆接触电极(1),所述N型SiC欧姆接触层(4)的上部设置有源极欧姆接触电极(5),所述SiC漂移层(3‑2)的一侧上部和所述N型SiC沟道层(3‑1)的一侧侧壁上设置有第一栅极肖特基接触电极(6‑1),所述SiC漂移层(3‑2)的另一侧上部和所述N型SiC沟道层(3‑1)的另一侧侧壁上设置有第二栅极肖特基接触电极(6‑2)。
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