发明名称 |
JFET及使用该JFET的微型逆变器 |
摘要 |
本实用新型公开了一种JFET及使用该JFET的微型逆变器,其JFET包括衬底和设在衬底上的SiC外延层,SiC外延层的上半部分为台阶状且为JFET的N型SiC沟道层,SiC外延层的下半部分为JFET的SiC漂移层,N型SiC沟道层的上部设有N型SiC欧姆接触层,衬底的下部设有漏极欧姆接触电极,N型SiC沟道层的上部设有源极欧姆接触电极,SiC漂移层的上部和N型SiC沟道层的侧壁上设有两个栅极肖特基接触电极;其微型逆变器包括电容C1、C2和C3,电感L1,JFET1、JFET2和JFET3,以及碳化硅肖特基二极管D1、D2、D3和D4。本实用新型设计新颖合理,实现方便,提高了微型逆变器的工作频率和工作可靠性,降低了电能损耗和电价。 |
申请公布号 |
CN202662614U |
申请公布日期 |
2013.01.09 |
申请号 |
CN201220260708.7 |
申请日期 |
2012.06.05 |
申请人 |
长安大学 |
发明人 |
张林;李演明;邱彦章 |
分类号 |
H01L29/812(2006.01)I;H02M7/537(2006.01)I;H02M3/155(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/812(2006.01)I |
代理机构 |
西安创知专利事务所 61213 |
代理人 |
谭文琰 |
主权项 |
一种JFET,其特征在于:包括由N型SiC基片构成的衬底(2)和设置在所述衬底(2)上表面上的SiC外延层,所述SiC外延层的上半部分为台阶状且为所述JFET的N型SiC沟道层(3‑1),所述SiC外延层的下半部分为所述JFET的SiC漂移层(3‑2),所述N型SiC沟道层(3‑1)的上部设置有N型SiC欧姆接触层(4),所述衬底(2)的下部设置有漏极欧姆接触电极(1),所述N型SiC欧姆接触层(4)的上部设置有源极欧姆接触电极(5),所述SiC漂移层(3‑2)的一侧上部和所述N型SiC沟道层(3‑1)的一侧侧壁上设置有第一栅极肖特基接触电极(6‑1),所述SiC漂移层(3‑2)的另一侧上部和所述N型SiC沟道层(3‑1)的另一侧侧壁上设置有第二栅极肖特基接触电极(6‑2)。 |
地址 |
710064 陕西省西安市南二环中段33号 |