发明名称 正性工作可成像元件的成像和显影方法
摘要 通过使用小于300mJ/cm2的能量将正性工作可成像元件成像曝光以提供曝光和未曝光区域而完成成像元件,例如平版印刷板的制造方法。使用含碳酸盐的碱性、无硅酸盐溶液将该成像元件显影以仅主要除去曝光区域而提供图像。该可成像元件包括基材和辐射吸收性化合物,并具有在该基材上的可成像层,该可成像层包含显影性增强化合物和聚(乙烯醇缩醛),在该聚(乙烯醇缩醛)中,其重复单元的至少25mol%包含侧硝基-取代的酚基。
申请公布号 CN101939166B 申请公布日期 2013.01.09
申请号 CN200980104053.5 申请日期 2009.01.21
申请人 伊斯曼柯达公司 发明人 M·列娃农;M·纳卡什;T·柯特塞尔;J·E·小亚当斯
分类号 B41C1/10(2006.01)I;B41M5/36(2006.01)I;G03F7/039(2006.01)I;G03F7/32(2006.01)I 主分类号 B41C1/10(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 赵苏林;李连涛
主权项 一种制造成像元件的方法,包括:A)使用小于300mJ/cm2的能量将正性工作可成像元件成像曝光,以提供曝光的和未曝光的区域,和B)用含碳酸盐的碱性、无硅酸盐溶液将所述成像曝光的元件显影,以仅主要除去所述曝光区域,从而在所述曝光和显影元件中提供图像,所述可成像元件包括基材和辐射吸收性化合物,并在所述基材上具有包含显影性增强化合物和聚(乙烯醇缩醛)的可成像层,在该聚(乙烯醇缩醛)中,其重复单元的至少25mol%包含硝基‑取代的酚基侧基。
地址 美国纽约州