发明名称 阳极氧化层的形成方法
摘要 本发明的阳极氧化层的形成方法包含:工序(a),准备铝基材(18)或沉积在支撑体上的铝膜;阳极氧化工序(b),在使铝基材(18)或铝膜的表面与电解液接触的状态下,使化成电压按规定的条件上升到预先决定的第1电压,之后,将第1电压维持规定的时间,由此形成具有微细的凹部(12a)的多孔氧化铝层(10);以及蚀刻工序(c),在工序(b)之后,使多孔氧化铝层(10)与蚀刻液接触,由此一边扩大微细的凹部(12a),一边对微细的凹部(12a)的侧面赋予倾斜度。根据本发明,能以简单的工序形成具备微细的凹部的阳极氧化层,上述微细的凹部具有实质上无台阶的倾斜的侧面。
申请公布号 CN102869813A 申请公布日期 2013.01.09
申请号 CN201180021390.5 申请日期 2011.04.26
申请人 夏普株式会社 发明人 伊原一郎
分类号 C25D11/04(2006.01)I;B82B3/00(2006.01)I;C25D11/12(2006.01)I;C25D11/24(2006.01)I;G02B1/11(2006.01)I 主分类号 C25D11/04(2006.01)I
代理机构 北京市隆安律师事务所 11323 代理人 权鲜枝
主权项 一种阳极氧化层的形成方法,包含:工序(a),准备铝基材或沉积在支撑体上的铝膜;阳极氧化工序(b),在使上述铝基材或上述铝膜的表面与电解液接触的状态下,使化成电压按规定的条件上升到预先决定的第1电压,之后,将上述第1电压维持规定的时间,由此形成具有微细的凹部的多孔氧化铝层;以及蚀刻工序(c),在上述工序(b)之后,使上述多孔氧化铝层与蚀刻液接触,由此一边扩大上述微细的凹部,一边对上述微细的凹部的侧面赋予倾斜度。
地址 日本大阪府