发明名称 Trockenätzgas für Halbleiterverfahren
摘要 Trockenätzgas für Halbleiterverfahren, umfassend – C5F8 in einer Menge von 99,995 Vol.-% oder mehr, – Stickstoff in einer Menge von 13 Vol.-ppm oder weniger, – Sauerstoff in einer Menge von 3 Vol.-ppm oder weniger, – Wasser in einer Menge von 1 Gew.-ppm oder weniger und – Metallbestandteile in einer Menge von 5 Gew.-ppb oder weniger.
申请公布号 DE102006062932(B3) 申请公布日期 2013.01.03
申请号 DE200610062932 申请日期 2006.10.18
申请人 FOOSUNG CO., LTD. 发明人 CHO, OOK JAE;YANG, JONG YEOL;KIM, BONG SUK;JI, HAE SEOK;RYU, JAE GUG;AHN, YOUNG HOON;KIM, DONG HYUN
分类号 C07C23/08;C07C17/20;C07C17/383;H01L21/306 主分类号 C07C23/08
代理机构 代理人
主权项
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