发明名称 离子发生装置
摘要 一种离子发生装置,能产生没有异物混入的清洁的离子化气体并涂布于被处理物上。在设置有由氧化钛形成的覆盖层(14)的受光体(11a)上照射来自紫外线发生源(15)的紫外线,将受光体(11a)的周围的空气电离成正的带电粒子和负的带电粒子。在具有电离了的空气的空间内通过电极(17)形成电场而将带电粒子离子化。通过鼓风机(20)将离子化了的带电粒子喷射到被处理物(W)上。
申请公布号 CN101449628B 申请公布日期 2013.01.02
申请号 CN200680054739.4 申请日期 2006.06.28
申请人 株式会社小金井 发明人 五十岚司
分类号 H05F3/06(2006.01)I 主分类号 H05F3/06(2006.01)I
代理机构 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人 周建秋;王凤桐
主权项 一种离子发生装置,其特征在于,该装置包括:受光体,该受光体的表面形成有能够通过紫外线激发的金属氧化物半导体的覆盖层;紫外线发生源,该紫外线发生源对所述受光体照射紫外线,激发所述覆盖层的金属氧化物半导体,使所述受光体的周围生成等离子体;电极,该电极与电源连接,在具有电离了的气体的空间内形成电场,选择性地吸附并中和来自所述等离子体中的正的带电粒子和负的带电粒子中的任意一种;鼓风单元,该鼓风单元将离子喷射到被处理物上,所述离子为没有被所述电极中和的带电粒子通过所述电场从所述电极避开时与气体结合而生成的离子。
地址 日本东京都