发明名称 |
制造光学活性醇的方法 |
摘要 |
本发明为立体选择性地制造光学活性醇的方法,其特征在于,使用光学活性2-[双(4-甲氧基苯基)羟甲基]吡咯烷、硼氢化钠和氯三甲基硅烷将芳香族酮还原。利用该方法,则即便是大规模下也可以制造显示高对映选择性的光学活性醇。 |
申请公布号 |
CN101384532B |
申请公布日期 |
2013.01.02 |
申请号 |
CN200780005458.4 |
申请日期 |
2007.02.13 |
申请人 |
寿制药株式会社 |
发明人 |
富山泰;横田昌幸 |
分类号 |
C07C29/143(2006.01)I;C07C67/31(2006.01)I;C07C33/22(2006.01)I;C07C69/65(2006.01)I;C07B53/00(2006.01)I;C07B61/00(2006.01)I;C07D205/08(2006.01)I;C07D263/14(2006.01)I |
主分类号 |
C07C29/143(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
熊玉兰;李平英 |
主权项 |
1.一种立体选择性地制造下式(V)所示光学活性醇的方法,<img file="FSB00000889549700011.GIF" wi="1391" he="279" />式中,R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>与下述同义;其特征在于,使用硼氢化钠、氯三甲基硅烷和下式(IV)所示光学活性2-[双(4-甲氧基苯基)羟甲基]吡咯烷将式(I)所示的芳香族酮还原,<img file="FSB00000889549700012.GIF" wi="1585" he="573" />式中,R<sup>1</sup>为氢原子、卤原子、碳原子数1-5的低级卤代烷基,R<sup>2</sup>为-(CH<sub>2</sub>)n-R<sup>3</sup>,式中,n为1~5的整数;R<sup>3</sup>为碳原子数1-5的低级烷氧基羰基、下式(II)所示的基团或者下式(III)所示的基团,<img file="1.GIF" wi="468" he="311" />式中,R<sup>4</sup>为苯基,R<sup>5</sup>和R<sup>6</sup>可以相同或不同,为氢原子、卤原子或苄氧基。 |
地址 |
日本长野县 |