发明名称 |
一种金属-多层绝缘体-金属电容器的制作方法 |
摘要 |
本发明公开了一种金属-多层绝缘体-金属电容器(MOM)的制作方法,其中:在衬底上沉积第一低K值介质层;采用沉积和含氧气体处理循环方式,在第一低K值介质层上沉积氮化硅层,其包括MOM区域的第一氮化硅层和非MOM区域的第二氮化硅层;刻蚀第二氮化硅层;在非MOM区域的上方沉积第二低K值介质层;光刻第一氮化硅层,形成第一金属槽,并且减薄第一氮化硅层;采用沉积和含氧气体处理循环方式,在第一氮化硅层表面沉积氧化硅层,并且刻蚀水平方向上的氧化硅,形成氧化硅-氮化硅-氧化硅结构;刻蚀第二低K值介质层,形成第二金属槽;向第一金属槽和第二金属槽进行金属填充工艺。本发明改善了电容器的各电特性并提高了电学均匀性。 |
申请公布号 |
CN102856161A |
申请公布日期 |
2013.01.02 |
申请号 |
CN201210110866.9 |
申请日期 |
2012.04.17 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
毛智彪;胡友存;徐强 |
分类号 |
H01L21/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/02(2006.01)I |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 31213 |
代理人 |
王敏杰 |
主权项 |
一种金属‑多层绝缘体‑金属电容器的制作方法,其特征在于,包括以下步骤: 提供一衬底; 在所述衬底上沉积一层第一低介电常数介质层,所述第一低介电常数介质层包括金属‑氧化物‑金属制作区域和非金属‑氧化物‑金属制作区域; 采用沉积步骤和含氧气体处理步骤循环进行的方式,在所述第一低介电常数介质层上沉积一层氮化硅层,所述氮化硅层包括金属‑氧化物‑金属区域的第一氮化硅层和非金属‑氧化物‑金属区域的第二氮化硅层; 刻蚀去除所述第二氮化硅层; 在所述非金属‑氧化物‑金属区域的上方再沉积一层第二低介电常数介质层; 在所述第一氮化硅层上进行光刻图案化工艺,在所述第一氮化硅层中形成第一金属槽,并且对所述第一氮化硅层进行刻蚀,在水平方向上减薄所述第一氮化硅层; 采用沉积步骤和含氧气体处理步骤循环进行的方式,在所述第一氮化硅层表面沉积一层氧化硅层,并且刻蚀所述氧化硅层去除水平方向上的氧化硅,形成氧化硅‑氮化硅‑氧化硅结构; 刻蚀所述第二低介电常数介质层,形成第二金属槽; 向所述第一金属槽和所述第二金属槽进行金属填充工艺。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 |