发明名称 | 集成电路元件 | ||
摘要 | 本发明一实施例提供一种集成电路元件,包括一半导体基板;一接垫部分,位于半导体基板上;以及一金属化结构,位于接垫部分上并与接垫部分电性连接,其中金属化结构包括一第一金属层,位于接垫部分上;一第一保护层,位于第一金属层上;以及一第二金属层,位于第一保护层上,其中第一保护层为一包含锗、硅、氮或前述的组合的含铜层。本发明有助于提高元件的可靠度以及增加使用寿命并降低制作成本。 | ||
申请公布号 | CN102024769B | 申请公布日期 | 2013.01.02 |
申请号 | CN201010284468.X | 申请日期 | 2010.09.14 |
申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 刘重希;黄见翎;何明哲 |
分类号 | H01L23/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L23/00(2006.01)I |
代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 姜燕;陈晨 |
主权项 | 一种集成电路元件,包括:一半导体基板;一接垫部分,位于该半导体基板上;以及一金属化结构,位于该接垫部分上并与该接垫部分电性连接,其中该金属化结构包括:一第一金属层,位于该接垫部分上;一第一保护层,位于该第一金属层上;以及一第二金属层,位于该第一保护层上,其中该第一保护层为氮化铜锗层、一氮化铜硅层、一氮化铜硅锗层或前述的组合。 | ||
地址 | 中国台湾新竹市 |