用于硬质薄片研磨抛光加工的载物盘

摘要

本实用新型涉及一种用于硬质薄片研磨抛光加工的载物盘，解决了现有的载物盘为金属制成与晶片直接接触，容易形成对晶片造成影响的缺陷，也解决了现有的载物盘易热变形的缺陷。包括基板，基板呈圆形，圆周上设置有传动齿，基板上设置有若干放置硬质薄片的固定孔，基板的上表面和下表面均覆盖有非金属膜，固定孔连通上表面和下表面，非金属膜包覆固定孔的周边。基板上、下表面附着非金属膜，载物盘旋转摩擦产生的热不会造成载物盘热变形，保证晶片研磨精度，载物盘带动晶片旋转时，晶片与固定孔之间由非金属膜隔开，不会直接接触，防止对晶片造成冲击，并能起到缓冲作用。

主权项

一种用于硬质薄片研磨抛光加工的载物盘，包括基板（5），基板呈圆形，圆周上设置有传动齿（2），其特征在于基板上设置有若干放置硬质薄片的固定孔（3），基板的上表面和下表面均覆盖有非金属膜，固定孔连通上表面和下表面，非金属膜包覆固定孔的周边。