基质辅助激光解析离子源进样装置

摘要

本实用新型提出一种基质辅助激光解析离子源进样装置，该装置包括样品托盘；密封腔，密封腔内具有第一真空度；真空腔，真空腔内具有高于第一真空度的第二真空度，真空腔与密封腔相连且通过真空腔的前密封板与密封腔隔开；设在密封腔一侧、用于将样品托盘送入密封腔内且从密封腔内输送到真空腔内的第一级进样组件；设在真空腔内且用于从第一级进样组件接纳样品托盘并将样品托盘输送至真空腔内的检测位置的第二级进样组件；密封门组件，密封门组件可打开和关闭地设在真空腔的前密封板上；和真空泵，由此，根据本实用新型的进样装置，能够将样品从常压环境平稳地送入高真空环境内且使样品在进样过程中逐渐适应真空度，保证样品的检测质量。

主权项

一种基质辅助激光解析离子源进样装置，其特征在于，包括：用于盛放样品的样品托盘；密封腔，所述密封腔内具有第一真空度；真空腔，所述真空腔内具有高于所述第一真空度的第二真空度，所述真空腔与所述密封腔相连且通过所述真空腔的前密封板与所述密封腔隔开；设在所述密封腔一侧、用于将所述样品托盘送入所述密封腔内且从所述密封腔内输送到所述真空腔内的第一级进样组件；设在所述真空腔内且用于从所述第一级进样组件接纳所述样品托盘并将所述样品托盘输送至所述真空腔内的检测位置的第二级进样组件；密封门组件，所述密封门组件可打开和关闭地设在所述真空腔的所述前密封板上；和真空泵，所述真空泵分别与所述密封腔和真空腔相连通。