| 发明名称 | 一种化学溶液沉积制备Gd<sub>2</sub>Zr<sub>2</sub>O<sub>7</sub>缓冲层的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种化学溶液沉积制备Gd2Zr2O7缓冲层的方法，其具体作法是：a、Gd2Zr2O7前驱溶液的制备：将适量的Gd(NO3)3.6H2O和ZrO(NO3)3.2H2O按照离子浓度Gd+3：Zr+4为1：1溶于羟乙基甲基醚中，加入氧化聚乙烯20000调节溶液的黏度，获得前驱溶液；b、湿膜的制备:将前驱溶液均匀涂覆在织构基带上，获得湿膜；c、干膜的制备:将湿膜进入干燥设备，去除薄膜中水份；d、分解成相:然后放入通有H2/Ar还原气氛的热处理炉内，先以1℃/min-5℃/min速率升温至350℃－600℃，让有机物和硝酸盐充分分解，后直接升温至成相高温区1100℃－1200℃，保温0.5－2小时，获得Gd2Zr2O7薄膜。该采用化学方法硝酸盐体系制作Gd2Zr2O7缓冲层成本低廉、工艺简单、操作容易控制、不污染环境，有利于大规模工业化生产。 | ||
| 申请公布号 | CN102851655A | 申请公布日期 | 2013.01.02 |
| 申请号 | CN201210318922.8 | 申请日期 | 2012.09.03 |
| 申请人 | 西南交通大学 | 发明人 | 雷鸣;赵勇;武伟;蒲明华;张勇 |
| 分类号 | C23C20/08(2006.01)I | 主分类号 | C23C20/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 成都中亚专利代理有限公司 51126 | 代理人 | 王岗 |
| 主权项 | 一种化学溶液沉积制备Gd2Zr2O7缓冲层的方法，其特征在于：依次由以下步骤构成：a、Gd2Zr2O7前驱溶液的制备：将Gd (NO3)3.6H2O和ZrO(NO3)3.2H2O按照离子浓度Gd+3：Zr+4为1：1溶于羟乙基甲基醚中，加入氧化聚乙烯20000调节溶液的黏度，获得前驱溶液；b、湿膜的制备：将所获得的前驱溶液均匀涂覆在织构基带上，获得湿膜；c、干膜的制备：将湿膜进入恒温干燥设备，完全去除薄膜中水份；d、分解成相：放入通有H2/Ar还原气氛的热处理炉内，先在1℃/min‑5℃/min速率范围升温至350℃－600℃，让有机物和硝酸盐充分分解，后直接升温至成相高温区1100℃－1200℃，保温0.5－2小时，获得Gd2Zr2O7薄膜。 | ||
| 地址 | 610031 四川省成都市二环路北一段111号 | ||