一种真空镀膜装置及金属高温真空镀膜方法

摘要

本发明属于真空镀膜领域，公开了一种真空镀膜装置及金属高温真空镀膜方法。该真空镀膜装置设有气体捕集器，并设有两组加热器。镀膜包括如下步骤：（1）抽真空，开启气体捕集器和外圈加热器设定加热温度为30~60℃；（2）待真空度至7-9×10-3Pa，开启内圈加热器，设定内、外圈加热器的加热温度为90~120℃；（3）沉积：待真空度至3-5×10-3Pa，设定内、外圈加热器的温度为60~90℃，开始沉积膜层；（4）关闭外圈加热器，设置内圈加热器的温度为20~50℃，加热5~15min。本发明可大大提高抽真空速率，缩短抽真空耗时，并且制成的膜层附着力好，膜层致密。

主权项

一种真空镀膜装置，其包括真空工作室，在真空工作室的中央设有气体捕集器，在真空工作室的底部设有旋转台，在旋转台边缘上竖立分布若干第一溅射靶以及若干内圈加热器，在真空工作室的侧壁分布若干第二溅射靶以及若干外圈加热器；所述第一溅射靶以及第二溅射靶对应设置；在第一溅射靶和第二溅射靶之间设有工件悬挂件。