发明名称 |
用于X射线成像中的散射校正的方法和系统 |
摘要 |
本发明的名称为用于X射线成像中的散射校正的方法和系统。公开用于使用散射X射线的反向跟踪来得出散射信息的方式。在某些实施例中,与从源进行到探测器的跟踪方案相反,跟踪从探测器上的相应位置到X射线辐射源的散射射线。在一种这样的方式中,反向跟踪使用密度积分容积来实现,这减少所执行的积分步骤。 |
申请公布号 |
CN102846333A |
申请公布日期 |
2013.01.02 |
申请号 |
CN201210220584.4 |
申请日期 |
2012.06.29 |
申请人 |
通用电气公司 |
发明人 |
吴小页;谢强;P.赛纳思;X.刘 |
分类号 |
A61B6/03(2006.01)I;G01N23/04(2006.01)I;G06T5/00(2006.01)I |
主分类号 |
A61B6/03(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
叶晓勇;李浩 |
主权项 |
一种用于估计散射的方法,包括:基于从源到探测器的X射线传送来生成初始容积;基于材料类型来表征在所述初始容积中的多个体素;基于所述多个体素来生成密度积分容积;以及跟踪一个或多个散射X射线,开始于所述探测器并且朝所述源前进,以便生成所述探测器上的多个离散位置的散射轮廓。 |
地址 |
美国纽约州 |