发明名称 |
固态成像元件及其制造方法、电子装置及其制造方法 |
摘要 |
本技术涉及固态成像元件及其制造方法、电子装置及其制造方法。本技术的固态成像元件的制造方法包括:形成透镜的步骤,所述透镜各自设置成与配置在半导体基板之上的成像区域中的多个像素中的相应一个的受光部相对应,并且向所述受光部上聚集光;通过使用具有遮光能力的材料在所述透镜上进行膜沉积来形成遮光层的步骤;以及通过以在所述透镜之间的分界部分处残留具有遮光能力的材料的方式蚀刻所述遮光层,来在彼此相邻的透镜之间的分界部分处形成由所述具有遮光能力的材料构成的遮光部的步骤。 |
申请公布号 |
CN102856335A |
申请公布日期 |
2013.01.02 |
申请号 |
CN201210211246.4 |
申请日期 |
2012.06.20 |
申请人 |
索尼公司 |
发明人 |
桝田佳明 |
分类号 |
H01L27/146(2006.01)I;H01L27/148(2006.01)I;H04N5/335(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/146(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
曲莹 |
主权项 |
一种用于制造固态成像元件的方法,包括:形成透镜的步骤,所述透镜各自设置成与配置在半导体基板之上的成像区域中的多个像素中的相应一个的受光部相对应,并且向所述受光部上聚集光;通过使用具有遮光能力的材料在所述透镜上进行膜沉积来形成遮光层的步骤;以及通过以在所述透镜之间的分界部分处残留具有遮光能力的材料的方式蚀刻所述遮光层,来在彼此相邻的透镜之间的分界部分处形成由所述具有遮光能力的材料构成的遮光部的步骤。 |
地址 |
日本东京都 |