发明名称 | 图像传感器装置的制造方法 | ||
摘要 | 本发明是揭示一种图像传感器装置的制造方法,该方法包含在一基底上形成一光敏层。然后,经由一第一光掩模来使上述光敏层曝光,以形成一已曝光区与一未曝光区。接着,经由一第二光掩模来使上述未曝光区部分地曝光,以形成一裁减部,其中上述第二光掩模具有一第一部分与一第二部分,上述第二部分所具有的透光率是大于上述第一部分的透光率。再来,移除上述裁减部以形成多个光敏结构。接下来,重流(reflow)上述光敏结构,以形成具有不同高度的一第一透镜与一第二透镜。本发明的方法可以简单地控制每个个别的微透镜,以具有一较佳的高度,来改善图像传感器装置的感光度。 | ||
申请公布号 | CN102290423B | 申请公布日期 | 2013.01.02 |
申请号 | CN201010282272.7 | 申请日期 | 2010.09.09 |
申请人 | 采钰科技股份有限公司 | 发明人 | 杨明昇;余雅筠 |
分类号 | H01L27/146(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/146(2006.01)I |
代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 姜燕;陈晨 |
主权项 | 一种图像传感器装置的制造方法,包含:在一基底上形成一光敏层;经由一第一光掩模来使该光敏层曝光,以形成一已曝光区与一未曝光区;经由一第二光掩模来使该未曝光区部分地曝光,以形成一裁减部,其中该第二光掩模具有一第一部分与一第二部分,该第一部分是不透明,而该第二部分是半透明,该第二部分所具有的透光率是大于该第一部分的透光率;移除该裁减部以形成多个光敏结构;以及重流所述多个光敏结构,以形成具有不同高度的一第一透镜与一第二透镜。 | ||
地址 | 中国台湾新竹市 |