临界尺寸缩减及粗糙度控制

摘要

本发明提供了一种在蚀刻层中形成特征之方法。在该蚀刻层之上形成光阻层。在该光阻层中产生图案，以便形成具有光阻侧壁之复数个光阻特征。在该光阻层以及该等光阻特征的底部之上形成控制层。在该等光阻特征的侧壁以及该控制层之上沈积一保形层，以便减少该等光阻特征的临界尺寸。以控制层穿透化学剂在该控制层中打开复数个开孔。以不同于该控制层穿透化学剂的蚀刻化学剂在该蚀刻层中蚀刻出复数个特征，其中该控制层比该保形层更能抗拒该蚀刻化学剂的蚀刻。