发明名称 透明导电性膜、其制造方法及具备该薄膜之触摸面板
摘要 本发明提供一种透明导电性膜,其具有笔输入耐久性及高温高湿可靠性优异之透明导电体层。;本发明之透明导电性膜之特征在于:其系于透明之薄膜基材之单面上,经由至少一层底涂层而具有透明导电体层者,上述透明导电体层之厚度d为15~35nm,平均表面粗糙度Ra为0.37~1nm。
申请公布号 TWI381400 申请公布日期 2013.01.01
申请号 TW097136353 申请日期 2008.09.22
申请人 日东电工股份有限公司 日本 发明人 梨木智刚;菅原英男
分类号 H01B5/14;B32B7/02;H01L21/285 主分类号 H01B5/14
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 日本