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发明名称
用雷射照射之导电性电路形成方法及导电性电路
摘要
本发明之课题在于提供一种不使用光罩、光阻剂、曝光装置、蚀刻装置等,而是利用简单的装置,于短时间内、于基板上形成微细电流布线的方法。;解决问题之技术手段系将含有粒径约为0.5~200nm之金属奈米微粒的金属分散液涂布于整面基板后进行乾燥,藉由局部照射发生300~550nm波长光的雷射束而使金属微粒相结合,进行布线图案之描绘、洗净而去除不要部分之金属分散液,于基板上形成所要之布线。不论于不耐热的塑胶基板或低熔点玻璃基板上,均能够制作布线。
申请公布号
TWI381781
申请公布日期
2013.01.01
申请号
TW094112506
申请日期
2005.04.20
申请人
住友电气工业股份有限公司 日本
发明人
冈田一诚;下田浩平;江畑惠司;平井隆之
分类号
H05K3/10;B41J2/01;H01B1/02;H01L21/28;C09D5/24
主分类号
H05K3/10
代理机构
代理人
何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项
地址
日本
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